Кольцо из цельного карбида кремния
Кольцо Solid SiC Edge Ring — это высокопроизводительный керамический компонент, используемый в процессах плазменного травления полупроводников. Изготовленный из высокочистого карбида кремния, он обеспечивает исключительную стойкость к плазме, химическую стойкость, термическую стабильность и длительный срок службы. Благодаря гладкой поверхности и античастичным свойствам он обеспечивает оптимальную защиту пластины и чистоту камеры. Semixlab предлагает индивидуальные решения и быструю доставку. Приглашаем на консультацию.
Описание
Основные эксплуатационные характеристики
Кольцо Semixlab Bulk SiC Edge Ring разработано для удовлетворения жестких требований производства полупроводников следующего поколения. Следующие характеристики производительности делают его предпочтительным выбором для камер плазменного травления в передовых фабриках:
● Отличная устойчивость к плазменной бомбардировке
Изготовленное из высокочистого твердого карбида кремния, краевое кольцо демонстрирует исключительную устойчивость к воздействию плазмы высокой плотности, гарантируя минимальный износ и длительный срок службы компонента в условиях интенсивной ионной бомбардировки.
● Превосходная стойкость к газовой коррозии
Материал SiC обладает высокой химической инертностью, эффективно выдерживая воздействие едких травильных газов, таких как Cl₂, CF₄ и SF₆, без ухудшения качества поверхности даже в условиях высоких температур.
● Исключительная стойкость к тепловому удару и термической деформации
Благодаря теплопроводности 120–150 Вт/м·К и низкому коэффициенту теплового расширения (~4.5×10⁻⁶/К) твердая структура SiC сохраняет размерную стабильность и механическую целостность при быстрых термоциклах.
● Гладкая поверхность, работа без частиц
Передовые технологии обработки поверхности обеспечивают низкую шероховатость поверхности (Ra ≤ 0.2 мкм), сводя к минимуму образование частиц и упрощая процессы очистки камеры, что сокращает время простоя.
● Отсутствие деформации или коробления с течением времени
В отличие от обычных композитных краевых колец наша монолитная конструкция из карбида кремния остается плоской и стабильной по размерам на протяжении длительных технологических циклов, обеспечивая надежную работу в течение длительного срока службы.

Почему стоит выбрать кольца Semixlab SiC Edge Rings?
В Semixlab мы обеспечиваем превосходное качество, подкрепленное опытом и инновациями. Вот почему кольца Semixlab SiC Edge Rings выделяются:
● Индивидуально разработанные решения
Мы обеспечиваем полную индивидуальную настройку на основе спецификаций вашего процесса, включая внутренний/внешний диаметр, толщину и специальные покрытия или текстуры поверхности, гарантируя идеальную посадку и оптимальную производительность в вашей травильной камере.
● Широкий ассортимент типов
Semixlab поддерживает различные платформы инструментов для травления, включая TEL, Lam, AMAT и индивидуальные OEM-системы, причем доступны как стандартные, так и специальные кромочные кольца для соответствия различным технологическим требованиям.
● Стабильное качество, быстрая доставка
Благодаря сертифицированному по стандарту ISO производству, строгому контролю качества и оптимизированной цепочке поставок мы гарантируем стабильную производительность деталей, короткие сроки выполнения заказов и своевременную доставку, что позволяет вашему производству работать без задержек.
Характеристики
Основные физические свойства твердого SiC
| Физические свойства твердого SiC | |||
| Плотность | 3.21 | г / см3 | |
| Электричество Удельное сопротивление | 102 | Ом/см | |
| Предел прочности при изгибе | 590 | МПа | (6000кгс/см2) |
| Модуль для младших | 450 | ГПа | (6000кгс/мм2) |
| Твердость по Виккерсу | 26 | ГПа | (2650кгс/мм2) |
| КТР (RT-1000℃) | 4.0 | x10-6/K | |
| Теплопроводность (RT) | 250 | Вт / мК | |
Области применения
Применение в производстве полупроводников
Кольцо Solid SiC Edge Ring является важным компонентом в процессе плазменного травления кремниевой пластины, где оно служит защитным и структурным интерфейсом между пластиной и оборудованием камеры. Расположенный по краю пластины, этот компонент обеспечивает стабильность процесса, защищает электростатический патрон (ESC) и снижает риски загрязнения, предотвращая накопление частиц. Оно особенно ценно в средах высокоточного сухого травления и RIE (реактивного ионного травления), где критически важны повторяемость процесса, защита камеры и долговременная надежность.
Услуги

Магазин продукции Semixlab


EN
EN
DA
NL
FI
FR
DE
IT
JA
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
ID
SK
UK
VI
TH
TR
FA
BE
LA
UZ




